透視恒溫槽對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

    低溫恒溫槽對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。廣泛用于化工、石油、醫(yī)學、生物學、物理化學、計量檢定、大專院校、電子儀表、科研機構等領域進行實驗、檢測和企業(yè)生產的一個冷熱受控、溫度均勻、并需清晰觀察浴槽內部實時反應情況的場所對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，恒溫槽控制系統(tǒng)采用PID自動控制，LED數(shù)顯。

   

透視恒溫槽啟動前的準備：

    1. 啟動前將透視恒溫槽和現(xiàn)場清理干凈。空氣中不應有腐蝕性氣體和有害雜質, 周圍無強電磁場干擾。應避免陽光直接照射到儀器上。

    2. 檢查外接軟管的卡套或法蘭螺栓是否擰緊。

    3. 電源要求：單相三線制或三相五線制（對應型號選擇電源規(guī)格）具有良好 接地，接地電阻不大于0.1歐姆。

    4. 注入循環(huán)液：*次使用應注入循環(huán)液，循環(huán)液的注入量以離上沿30mm 為佳！為防止異物堵塞管路，結垢等，請使用去離子水或循環(huán)液。水箱應定期清洗，水箱中的循環(huán)液應該定期更換防止微生物滋生。

    注1：小開口的透視恒溫槽應開機注入循環(huán)液。使用直徑不小于300mm的漏斗緩慢注入冷卻液，待水位報警停止時停止注入。

    注2：不同工作溫度應采用不同的冷卻液，參考如下：

    ●工作溫度低于5℃時,一般選用乙二醇的水溶液或乙醇。

    ●工作溫度5－80℃時, 一般選用去離子水。

    ●工作溫度80－90℃時,一般選用15％甘油水溶液。

    ●工作溫度90℃--200時,一般選用硅油，粘度不超過10。

    ●工作溫度超過200℃時,一般選用硅油，粘度不超過50。